匀胶显影机 型号：SC100-DE
　　SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。 
 主要性能指标： 
主机机箱采用不锈钢材料（抗化学腐蚀易清洁）  
旋涂程序：多可存100组程序，每组100步，每个步骤可到0.1秒  
转动速度：0-10,000rpm（更高速可选）  
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空载）  
马达旋涂转速稳定性能误差 < ±1rpm  
转速调节精度<1rpm，重复性< 1rpm  
工艺时间设定： 0-3,000 sec/step，时间设置精度：0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圆晶）  
标准配置两路喷液系统（显影液和去离子水）